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为了系统研究工艺参数对图案化金属铜膜的影响，进一步优化产物的结构和光学性能，研究通过改变薄膜厚度、衬底偏压和衬底温度等工艺参数在玻璃衬底上沉积了图案化金属铜膜。利用粉末x射线衍射仪和紫外可见分光光度计分别研究了工艺参数对图案化金属铜膜的晶体结构和光学吸收特性的影响。研究结果表明，在晶体结构方面，图案化金属铜膜具有良好的Cu（111）择优取向，并且衍射峰强度随薄膜厚度、衬底温度的增加而增强，随衬底偏压的增加而减弱。在光学性质方面，图案化金属铜膜在630-660nm红光波段出现反常光学吸收。而且，吸收峰的强度