【摘 要】
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1、引言在用于亚微米光刻的分步重复X射线曝光设备中,要求十分精确地检测硅片和掩模的水平位置及它们之间的间隙。采用双栅的方法已经有所报道。然而,这种方法难以将定位信
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1、引言在用于亚微米光刻的分步重复X射线曝光设备中,要求十分精确地检测硅片和掩模的水平位置及它们之间的间隙。采用双栅的方法已经有所报道。然而,这种方法难以将定位信号与间隙设置信号分开,也难以判断它们的漂移
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