硼离子注入半绝缘InP和N型InP的电特性研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gsdx2009
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本文研究了硼注入绝缘InP和N型InP的电性质.硼注入是在100keV能量下,剂量从1×1012到1×1016cm-2范围内进行.注入后的退火在纯氮气的保护下由100℃到700℃范围变化.硼注入半绝缘InP的结果表明,硼注入诱导形成载流子分布.硼注入N型InP后形成高阻绝缘层,其电阻率随退火温度变化出现两个峰值.本文还讨论了硼注入层电性能变化的机理.
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