用含氟等离子反应离子刻蚀SiGe合金

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【摘要】

：

用含氟等离子反应离子刻蚀ＳｉＧｅ合金＝ＲｅａｃｔｉｖｅｉｏｎｅｔｃｈｉｎｇｏｆＳｉＧｅａｌｌｏｙｓｕｓｉｎｇｆｌｕｏｒｉｎｅ－ｃｏｎ－ｔａｉｎｉｎｇｐｌａｓｍａ［刊，英］／Ｚｈａｎｇ，Ｙ，…Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．Ａ．Ｖａｃ，ｓｕｒｆ，Ｆ... Reactive ionetching of SiGealloys using fluorine-con-tainingplasma [Journal of English] / Zhang, Y, J, et al. Vac. Sci. T

【出处】

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微电子学

【发表日期】

：

1994年06期

【关键词】

：

反应离子刻蚀 SiGe 化学汽相淀积腐蚀率频谱仪腐蚀速率腐蚀特性电子回旋共振离子能量高真空

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