【摘 要】
：
以NH3和SiH4为反应源气体，在低温下采用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）法在多晶硅（p-Si）衬底上沉积了SiNx薄膜。系统地分析讨论了沉积温度、射频功率、反应源气体流量比
【机 构】
：
山东理工大学物理与光电信息技术学院,电子科技大学光电信息学院
论文部分内容阅读
以NH3和SiH4为反应源气体，在低温下采用射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PECVD）法在多晶硅（p-Si）衬底上沉积了SiNx薄膜。系统地分析讨论了沉积温度、射频功率、反应源气体流量比对SiNx薄膜界面特性的影响。分析表明，沉积温度和射频功率主要是通过影响SiNx薄膜中的Si／N比和H含量影响薄膜的界面特性，而NH3／SiH4流量比则主要通过影响薄膜中的H含量影响薄膜界面特性。实验制备的SiNx薄膜层中的固定电荷密度、可动离子密度、SiNx与p-Si之间的界面态密度分别达到了1．7×10
其他文献
目的探讨西酞普兰治疗惊恐障碍的疗效和副作用。方法60例惊恐障碍患者随机分为西酞普兰组和舍曲林组,治疗8周,以汉密尔顿焦虑量表(HAMA)、抗抑郁药不良反应评定量表(SERS)作
目的探讨流式细胞术(FCM)检测微小残留病变(MRD)在急性白血病(AL)造血干细胞移植(HSCT)中的应用。方法采用以CD45与侧向散射光(CD45/SSC)设门的三色及四色荧光标记流式细胞术
不同状态纯Mg试样在75—200℃,15—40 MPa条件下的蠕变实验表明:在等同条件下,铸态试样的晶粒粗大,蠕变速率较低;挤压态试样由于动态再结晶,晶粒变细,蠕变速率大幅上升;退火
随着市场经济体制的不断变化,市场竞争变得越来越激烈。各企业为了不断的提高自身的综合竞争力,应该健全业绩考核制度,从而不断的激发员工的工作激情。目前,我国的大多数企业
论文的主要目标是为了完成用于求职以及企业招聘的平台,本系统涉及的技术平台为Internet技术,而平台中所涉及到有关于网页设计方面的构架知识均依照B/S模式进行开发,其中应用
综述了稻谷陈化变质的主要影响因素、稻谷陈化变质与品质变化的关系以及应对陈化变质的防控措施,为稻谷的安全储藏提供理论依据。
在科技推动经济发展的今天,科技型中小企业已成为推动我国技术创新、经济发展的中坚力量。然而,融资成本高、融资渠道少这些问题始终困扰着科技型中小企业,融资难的问题已成
<正>格子间可不仅仅是个物理场所。近年来,社会心理学和组织心理学家开始搜集证据,以证明工作环境对工作效率有着深刻、惊人的影响。办公桌的大小、自然光照的多少、室内的空
<正>班主任,是学校领导委派到一个教学班,全面负责教育学生的专职教师.班主任是学校行政领导对学生进行教育工作和管理工作的骨干和重要助手,是全班学生的组织者、教育者和指
<正>二次曲线是高中解析几何的核心内容,抛物线是常见的二次曲线之一.在与抛物线有关的问题中,过抛物线的焦点的弦的问题是十分常见的,本文介绍若干有关抛物线的焦点弦的性质