【摘 要】
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为简化砷扩散表面浓度的估算,推导了一个仅依赖于结深 x_i 和薄层电阻 Rs 的简单表示式:Cs=(1.56×10~(17)/(x_i·Rs))。此式是由实验的迁移率数据和砷扩散方程解的多项式近
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为简化砷扩散表面浓度的估算,推导了一个仅依赖于结深 x_i 和薄层电阻 Rs 的简单表示式:Cs=(1.56×10~(17)/(x_i·Rs))。此式是由实验的迁移率数据和砷扩散方程解的多项式近似值而得到的。由五种不同类型砷源的扩散数据表明,当 Cs≥ni 时 Cs 的这个表示式可准确在15%之内。
In order to simplify the estimation of the surface concentration of arsenic diffusion, a simple expression that depends only on the junction depth x_i and the sheet resistance Rs is derived: Cs = (1.56 × 10-17 / (x_i · Rs)). This equation is derived from the experimental approximation of the mobility data and the polynomial approximation of the arsenic diffusion equation. Diffusion data from five different types of arsenic sources show that Cs can be accurate to within 15% for Cs ≧ n.
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