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磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大于 2 0kPa ,该应力足以完成磁流变抛光。最后给出一个磁流变抛光的实例 ,证明了磁流变抛光液的实用性。实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为 0 .2 μm s。