Fabrication of Nanoscale Step Height Structure Using Atomic Layer Deposition Combined with Wet Etch

来源 :中国机械工程学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaojia1118
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为 nanosteps 的制造使用的当前的技术被变瘦的层生长然后离子横梁通常做。也有额外的电影,在步表面上变得以便减少粗糙。整个过程因此是耗时的。在这篇论文, nanoscale 步高度结构被原子层免职(ALD ) 和湿蚀刻技术制作。根据步高度价值可追踪,制造过程是可控制的。因为 ALD 技术能种许多材料,铝氧化物(艾尔 <sub>2</sub > O <sub>3</sub>) 被用来制作 nanostep。有艾尔 <sub>2</sub
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