【摘 要】
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一、引言由于聚酰亚胺(以下筒称PI)膜具有许多独特的优点。目前,在国内外半导体器件制备工艺中,特别是在器件钝化保护和微波GaAsFET中的应用以及作为集成激光器的波导材料等
【机 构】
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吉林大学,吉林大学,吉林大学 电子科学系八五届毕业生
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一、引言由于聚酰亚胺(以下筒称PI)膜具有许多独特的优点。目前,在国内外半导体器件制备工艺中,特别是在器件钝化保护和微波GaAsFET中的应用以及作为集成激光器的波导材料等方面,得到了广泛的应用。正因为如此,PI膜的刻蚀引起了人们的重视。但对PI厚膜的的刻蚀,研究工作不多。本文对PI厚膜的刻蚀工作,给出了一些实验结果。
I. INTRODUCTION Since polyimide (hereinafter referred to as PI) film has many unique advantages. At present, it has been widely used in the preparation process of semiconductor devices at home and abroad, especially in the device passivation protection and the application of microwave GaAsFET and as the waveguide material of an integrated laser. Because of this, the PI film etching has drawn people’s attention. However, there is not much research work on the etching of PI thick film. In this paper, the PI thick film etching work, given some experimental results.
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