【摘 要】
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本文采用物理气相沉积（ＰＶＤ）法在不同预处理的Ｓｉ（１００）衬底上沉积了Ｃ６０膜，并利用ＡＦＭ和ＸＲＤ研究了其生长特征和结构特性。结果表明，Ｃ６０膜的生长特性不仅与Ｃ６０分子的移动性和衬底的表面性质等多种因素有关，而且还
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本文采用物理气相沉积（ＰＶＤ）法在不同预处理的Ｓｉ（１００）衬底上沉积了Ｃ６０膜，并利用ＡＦＭ和ＸＲＤ研究了其生长特征和结构特性。结果表明，Ｃ６０膜的生长特性不仅与Ｃ６０分子的移动性和衬底的表面性质等多种因素有关，而且还受衬底表面先前淀积的Ｃ６０膜的有序性影响；Ｈ－Ｓｉ（１００）面上生长的Ｃ６０膜与普通抛光Ｓｉ（１００）面上的相比更具有〈１１１〉取向。
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