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采用复合靶磁控溅射法在SiO2玻璃、普通玻璃和Si（100）上沉积氧化钒薄膜，然后对其进行真空退火。分别利用x射线衍射、原子力显微镜、紫外可见光分光光度计和红外光谱仪分析样品的物相、表面形貌和光透过率。结果表明：500℃下退火1h，SiO2玻璃衬底上沉积40min的薄膜主要物相为VO2和V2O5，退火时间延长到2h，薄膜主要物相为VO2，薄膜晶粒尺寸均匀，晶粒大小约为100nm；Si（100）上沉积40min的薄膜在500℃下退火2h后，物相为低于＋4价的钒氧化物；掺钨后薄膜可见光和红外光的透过率都有提高