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砷化镓(GaAs)材料质量表征技术的新进展
砷化镓(GaAs)材料质量表征技术的新进展
来源 :半导体杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mashangdenglu888
【摘 要】
:
本文综述了近年来砷化镓材料质量表征技术的新进展,包括半绝缘砷化镓体单晶和外延薄膜材料两个方面。着重指出了材料表征技术时材料研制和器件应用的重要作用。
【作 者】
:
沈能珏
【机 构】
:
电子部46研究所
【出 处】
:
半导体杂志
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
表征
进展
砷化镓
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本文综述了近年来砷化镓材料质量表征技术的新进展,包括半绝缘砷化镓体单晶和外延薄膜材料两个方面。着重指出了材料表征技术时材料研制和器件应用的重要作用。
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