Si／Si直接键合界面的FTIR和XPS研究

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fzzlz

【摘要】

：

通过新颖的键合方法实现了Si/Si直接键合.采用傅里叶红外透射谱(FTIR)对Si/Si键合界面进行了研究,结果表明,高温退火样品的界面组分为Si和O,无OH和H网络存在.X射线光电子谱(X

【作者】

：

陈松岩谢生何国荣

【机构】

：

厦门大学

【出处】

：

半导体光电

【发表日期】

：

2004年5期

【关键词】

：

硅直接键合红外透射谱 X射线光电子谱 silicon directbonding FTIR XPS

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通过新颖的键合方法实现了Si/Si直接键合.采用傅里叶红外透射谱(FTIR)对Si/Si键合界面进行了研究,结果表明,高温退火样品的界面组分为Si和O,无OH和H网络存在.X射线光电子谱(XPS)测试结果进一步表明,界面主要为单质Si和SiOx混合网络,且随着退火温度的升高,界面层Si-Si直接成键的密度也越高.

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