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利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF-MO-PM3方法,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构,并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系.
菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究
【摘 要】
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利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF
【机 构】
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华东理工大学,南京理工大学
【出 处】
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感光科学与光化学
【发表日期】
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2002年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目 ( 2 9836150 )
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