【摘 要】
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大规模集成电路生产中,光刻机是一关键设备,而光刻机中的掩模——硅片对准系统又是集成电路生产中提高器件的成品率和生产效率、实现光刻操作全自动化的关键,其研究一直受到
【机 构】
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华中理工大学光学系,华中理工大学光学系,华中理工大学光学系 430074,430074,430074
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大规模集成电路生产中,光刻机是一关键设备,而光刻机中的掩模——硅片对准系统又是集成电路生产中提高器件的成品率和生产效率、实现光刻操作全自动化的关键,其研究一直受到有关半导体设备研制、生产单位的重视。
In large-scale integrated circuit production, the lithography machine is a key equipment, and lithography machine mask - silicon alignment system is the production of integrated circuits to improve device yield and production efficiency, to achieve full photolithography The key to automation, the research has been subject to the development of semiconductor equipment, production units attention.
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