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Enhanced Photo-Induced Property of LPCVD-TiO<SUB>2</SUB>Layer on PCVD-Ti

来源 :材料科学与化学工程(英文) | 被引量 : 0次 | 上传用户：outerwy

【摘 要】

：

Plasma-assisted chemical vapor deposition (PCVD) was applied for amorphous TiOx deposition on Pyrex-glass substrate at low temperature below 90°C to contro

【作 者】

：

Satoshi Yamauchi Keisuke Yamam 

【机 构】

：

DepartmentofBiomolecularFunctionalEngineering

【出 处】

：

材料科学与化学工程(英文)

【发表日期】

：

2015年7期

【关键词】

：

LPCVD Anatase-TiO2 PCVD TiOx HYDROPHILICITY Photocatalyst LPCVD Anatase-TiO2PCVD 

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Plasma-assisted chemical vapor deposition (PCVD) was applied for amorphous TiOx deposition on Pyrex-glass substrate at low temperature below 90°C to control orientation of anatase-TiO2 layer by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) using TTI

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