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报道了利用快速退火法控制膜中纳米硅粒大小的方法,讨论了升温快慢与所形成的纳米硅粒大小的关系.
利用快速退火法控制非晶硅薄膜中纳米硅粒尺寸
【摘 要】
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报道了利用快速退火法控制膜中纳米硅粒大小的方法,讨论了升温快慢与所形成的纳米硅粒大小的关系.
【机 构】
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淮海工学院数理科学系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2004年10期
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