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期刊论文
LPVCD的原理与故障分析
LPVCD的原理与故障分析
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhangwenjiekao1
【摘 要】
:
文中介绍了CVD工艺的种类和特点。以LPVCD为例,介绍了其工艺的基本原理,以及设备的基本结构。根据多年的设备维护经验,分析了LPCVD设备的常见问题,提出了处理措施。最后,总结
【作 者】
:
张士伟
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第十三研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2014年5期
【关键词】
:
化学气相淀积
低压化学气相沉积
故障分析
工艺维护
CVD (Chemical vapor deposition)
LPCVD (Low-pressure C
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文中介绍了CVD工艺的种类和特点。以LPVCD为例,介绍了其工艺的基本原理,以及设备的基本结构。根据多年的设备维护经验,分析了LPCVD设备的常见问题,提出了处理措施。最后,总结出了LPCVD设备的工艺维护方法。
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