【摘 要】
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利用离子注入掺杂技术设计、制作半导体集成器件时,了解离子注入半导体材料的射程分布、射程离散和横向离散规律等是很重要的.用400keV能量的铒(Er)离子分别与样品表面法线方
【基金项目】
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山东建筑大学校内基金(批准号:XN070109)资助的课题~~
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利用离子注入掺杂技术设计、制作半导体集成器件时,了解离子注入半导体材料的射程分布、射程离散和横向离散规律等是很重要的.用400keV能量的铒(Er)离子分别与样品表面法线方向成0°,45°和60°倾角注入碳化硅(6H-SiC)晶体中,利用卢瑟福背散射技术研究了剂量为5×1015cm-2的400keVEr离子注入6H-SiC晶体的横向离散.测出的实验值与TRIM’98和SRIM2006得到的理论模拟值进行了比较,发现实验值跟TRIM’98和SRIM2006计算的理论值都符合较好,TRIM’98计算的理论值与试验值符合得更好一些.
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