MOCVD方法在Si衬底上低温生长ZnO薄膜

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chunxi1208
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采用二乙基锌(DEZn)和氧化亚氮(N2O)作为锌源和氧源,在低温300℃,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法在Si(100)衬底上制备了ZnO薄膜。通过优化氧锌比,ZnO薄膜为高度单一c轴方向生长。由光致发光谱和反射谱得知,ZnO薄膜的紫外发光峰位于388nm,具有很好的光透性,且其PL谱半峰宽为80meV。
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