【摘 要】
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分析了激光飞行标刻过程的扫描幅面约束(SAL)特性以及影响最大飞行速度(MFV)性能的因素。研究了在同-扫描幅面约束下,工件进入扫描幅面的不同方位对最大标刻位移(MMO)值的影
【机 构】
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华中科技大学光电子科学与工程学院激光加工国家工程中心,总后军需装备研究所兵研中心,
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分析了激光飞行标刻过程的扫描幅面约束(SAL)特性以及影响最大飞行速度(MFV)性能的因素。研究了在同-扫描幅面约束下,工件进入扫描幅面的不同方位对最大标刻位移(MMO)值的影响,推导出匀速运动情况下最大飞行速度和最大标刻时间的计算公式,理论公式表明MFV与最大标刻位移值成正比,与标刻时间成反比。对于竖向方位和横向方位进入扫描幅面的工件,采用先进入先标刻(FEFM)扫描算法进行了激光飞行标刻试验,在不同的标刻时间下得到的MFV实验结果和按照理论公式计算得到的MFV值吻合良好。
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