抑制剂1,2,4-三氮唑在Cu CMP后清洗中的作用

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在集成电路多层Cu互连化学机械抛光(CMP)后清洗工艺中,需要去除CMP时Cu表面的生成物和残留物,并保护互连金属Cu与阻挡层金属不被腐蚀。研究了基于FA/OⅡ的碱性清洗液中抑制剂1,2,4-三氮唑(TAZ)对Cu表面磨料颗粒去除及Cu、Co电偶腐蚀的影响,使用扫描电子显微镜(SEM)检测洗清后晶圆的表面形态和颗粒残留,并通过电化学实验研究清洗液中不同浓度的TAZ引起的Cu和Co之间的腐蚀电位差及腐蚀电流的变化。实验结果表明TAZ可以降低Cu表面的接触角,有利于颗粒的去除;含有25 mmol/L TAZ的清洗液去除了Cu表面大部分颗粒;含有20 mmol/L TAZ的清洗液可使Cu和Co之间的腐蚀电位差降低到0.178 V,有效抑制了电偶腐蚀。
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