【摘 要】
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文中介绍采用二氧化硅微粉和锡抛光盘的行星式双面抛光法,在抛光压力100～300g/cm~2。抛光液浓度5～10wt%,抛光盘转速75～90rpm下,抛光石英基片,既可获得好的表面质量,又可保证有较
【机 构】
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哈尔滨工业大学,哈尔滨工业大学,哈尔滨工业大学,哈尔滨工业大学
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文中介绍采用二氧化硅微粉和锡抛光盘的行星式双面抛光法,在抛光压力100～300g/cm~2。抛光液浓度5～10wt%,抛光盘转速75～90rpm下,抛光石英基片,既可获得好的表面质量,又可保证有较高的抛光效率。
This paper describes the use of silica powder and tin polishing disc planetary double-sided polishing method, the polishing pressure of 100 ~ 300g / cm ~ 2. Polishing liquid concentration 5 ~ 10wt%, polishing disc speed 75 ~ 90rpm, polished quartz substrate, both to obtain a good surface quality, but also ensure a higher polishing efficiency.
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