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通过调整钳位光电二极管P＋层掺杂浓度与阈值注入浓度，抑制了4 T-A PS像元传输管亚阈值漏电，提升了像元的满阱能力与量子效率，并应用 TCAD工具进行了仿真验证．结果表明，像元满阱容量可由3500e-提升至7900e-，550 nm入射光条件下量子效率可提升27．8％．
一种提升4T-A PS像元量子效率的方法
【摘 要】
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通过调整钳位光电二极管P＋层掺杂浓度与阈值注入浓度，抑制了4 T-A PS像元传输管亚阈值漏电，提升了像元的满阱能力与量子效率，并应用 TCAD工具进行了仿真验证．结果表明，像元满阱容量
【机 构】
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西安微电子技术研究所
【出 处】
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微电子学与计算机
【发表日期】
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2014年3期
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