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采用改装的直流磁控溅射设备,在适当的氧、氩气体中,对被溅射衬底加热进行YBCO材料的直流磁控溅射,溅射结束继续按温度程序控制曲线原位进行1个大气压下的氧气中退火,所得到的YBCO薄膜,其零电阻转变温度T_co一般在85～90K,临界电流密度J_c(77K)可以大于1×10~6A/Cm~2.
原位直流磁控溅射制备YBa2Cu3O7—δ超导薄膜
【摘 要】
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采用改装的直流磁控溅射设备,在适当的氧、氩气体中,对被溅射衬底加热进行YBCO材料的直流磁控溅射,溅射结束继续按温度程序控制曲线原位进行1个大气压下的氧气中退火,所得到
【机 构】
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南京电子器件研究所,南京电子器件研究所210016,210016,210016
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1991年1期
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