【摘 要】
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本文采用简并四波混频技术在室温下研究晶化a-Si:H/a-SiNx:H多层纳米硅复合膜三阶非线性光学性质,首次观察到这种多层膜的相位共轭信号,在共振光波波长λ=589nm处实验所用样
【机 构】
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华侨大学应用物理系,天津大学精密仪器与光电子工程学院
【基金项目】
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国家重点实验室基金;国家自然科学基金
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本文采用简并四波混频技术在室温下研究晶化a-Si:H/a-SiNx:H多层纳米硅复合膜三阶非线性光学性质,首次观察到这种多层膜的相位共轭信号,在共振光波波长λ=589nm处实验所用样品的三阶非线性极化率为χ(3)=1.4×10-6esu,分析表明其非线性光学响应增强的原因是纳米硅的强量子限域作用.
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