【摘 要】
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本文介绍一种用多孔W筒作料池的同轴针型液态金属Ga和Au离子源。料池内Ga和Au的贮量分别为200mg和150mg,具有低蒸发、长寿命的优点。由于液态金属与W针尖及多孔W料池内壁都能
【机 构】
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北京真空电子技术研究所,北京真空电子技术研究所,北京真空电子技术研究所
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本文介绍一种用多孔W筒作料池的同轴针型液态金属Ga和Au离子源。料池内Ga和Au的贮量分别为200mg和150mg,具有低蒸发、长寿命的优点。由于液态金属与W针尖及多孔W料池内壁都能良好浸润,因而流阻低,电流稳定性好。在总离子发射电流10μA时Ga的离子流稳定度和5μA时Au源的稳定度都可达到±1.5%/h,连续寿命试验分别超过500h和150h,故已具有实用价值。本文还讨论了影响稳定性的诸因素。
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