水溶性CuPc旋涂转速及退火方式对蓝色有机电致发光器件性能的影响

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本文以Be(PP)2为发光层、水溶性酞菁铜(WS-CuPc)为空穴注入层、NPB为空穴传输层,制备了结构为ITO/WS-CuPc/NPB/Be(PP)2/LiF/Al的蓝色有机发光二极管(OLEDs).研究了WS-CuPc不同旋涂转速对器件性能的影响.并在WS-CuPc最佳旋涂转速的基础上,进一步研究了WS-CuPc薄膜不同退火方式对器件性能的影响.实验中,对WS-CuPc层采用了一种新的退火方式,即对ITO玻璃衬底先加热后旋涂WS-CuPc层,并与传统退火方式及不经过退火处理的器件性能进行了比较,通过原子力显微镜(AFM)分析了不同处理方式对WS-CuPc薄膜表面形貌的影响.实验结果发现:WS-CuPc的最佳旋涂转速为3000r/min.在最佳旋涂转速的基础上,对WS-CuPc薄膜采用新退火方式得到的薄膜粗糙度比较小,器件性能最好. In the present paper, the ITO / WS-CuPc / NPB / Be (PP) thin films were prepared by using Be (PP) 2 as the luminescent layer, water-soluble copper phthalocyanine as the hole injection layer and NPB as the hole transport layer. 2 / LiF / Al blue organic light-emitting diodes (OLEDs). The effects of different spin speeds of WS-CuPc on the performance of the device were investigated. Based on the optimal spinning speed of WS-CuPc, Thin film on the performance of the device.In the experiment, a new annealing method was adopted for the WS-CuPc layer, that is, the ITO glass substrate was first heated and spin-coated with the WS-CuPc layer, and compared with the traditional annealing method and not The effects of different treatment methods on the surface morphology of WS-CuPc films were analyzed by atomic force microscopy (AFM). The experimental results show that the optimum spinning speed of WS-CuPc is 3000 r / min. On the basis of the optimal spin speed, the thin film roughness obtained by the new annealing method for WS-CuPc film is relatively small, and the device performance is the best.
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