【摘 要】
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以蚀刻因子为指标,通过正交试验对电解蚀刻法制备印制电路板(PCB)精细线路的工艺参数进行优化,得到电解蚀刻的最优条件为:2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(DMTD)15mg/L,CuCl230g/L,H
【机 构】
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重庆大学化学化工学院,江苏博敏电子股份有限公司,梅州博敏电子股份有限公司,电子科技大学能源与材料学院
【基金项目】
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2015年广东省“扬帆计划”先进印制电路关键技术研发及产业化项目(2015YT02D025).
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以蚀刻因子为指标,通过正交试验对电解蚀刻法制备印制电路板(PCB)精细线路的工艺参数进行优化,得到电解蚀刻的最优条件为:2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(DMTD)15mg/L,CuCl230g/L,HCl0.48mol/L,阳极电流密度2.4A/dm^2。在最优工艺条件下,蚀刻因子平均达到7.53,所得PCB精细线路平整均匀,无毛边、短路、断路等缺陷,阴极同步回收得到的铜板呈赤红色,回收率为47.67%。
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