【摘 要】
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为研究氮化硅薄膜发光材料的制备工艺及其光致发光机制，实验采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料。利用红外光谱（IR）、X射线衍射谱（XRD）、能谱（ED
【机 构】
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华侨大学信息科学与工程学院,中国科学院半导体研究所
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为研究氮化硅薄膜发光材料的制备工艺及其光致发光机制，实验采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料。利用红外光谱（IR）、X射线衍射谱（XRD）、能谱（EDS）和光致发光谱（PL），对不同工艺条件下薄膜样品的成分、结构和发光特性进行研究，发现在制备的富硅氮化硅薄膜材料中形成了纳米硅颗粒，并计算出其平均尺寸。在510nm光激发下，观察到纳米硅发光峰，对样品发光机制进行了讨论，认为其较强的发光起因于缺陷态和纳米硅发光。
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