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采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH、络合剂EDTA和分散剂PVP,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质. 研究了分散剂PVP对铜粉粒度的影响,结果表明分散剂PVP有助于粉末的分散.
分散剂PVP对液相还原法制备纳米铜粉的影响
【摘 要】
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采用KBH4在液相中化学还原CuSO4,并加入KOH、络合剂EDTA和分散剂PVP,制得了纳米级的纯净的铜粉,通过调整反应物的浓度,可以消除Cu2O等杂质. 研究了分散剂PVP对铜粉粒度的影响
【机 构】
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广东工业大学,中山大学
【出 处】
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广东工业大学学报
【发表日期】
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2005年2期
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