【摘 要】
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在n/n~+/n结构的高浓度掺杂层上形成了多孔硅。多孔硅完全氧化以后,在隔离的单晶硅岛上制作CMOS器件。经测量,迁移率与体硅差不多,而且,硅的漏电很小。
Porous silicon is f
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在n/n~+/n结构的高浓度掺杂层上形成了多孔硅。多孔硅完全氧化以后,在隔离的单晶硅岛上制作CMOS器件。经测量,迁移率与体硅差不多,而且,硅的漏电很小。
Porous silicon is formed on the heavily doped layer of the n / n ~ + / n structure. After the porous silicon is fully oxidized, CMOS devices are fabricated on isolated single crystal silicon islands. The measured mobility is about the same as that of bulk silicon, and the leakage of silicon is small.
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