【摘 要】
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使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有c轴择优取向的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫
【机 构】
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深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室
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使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有c轴择优取向的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪、扫描电子显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计,对合成样品进行了结构、成分以及光学性能的分析。结果显示,在1~10Pa的氧气压力条件下制备的所有ZnO薄膜均有着较高的光学透过率(】75%),氧气压力临界值为2Pa。氧气压力2Pa时合成的ZnO薄膜有着较平整的表面及较高的沉积速率(250nm/h),(002)峰的半高宽为0.20°,此
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