【摘 要】
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目的 进一步改善氮化钛薄膜的摩擦学性能。方法 利用金属蒸汽真空弧源（MEVVA）在离子镀TiN薄膜表面进行等剂量W、Mo离子注入。采用扫描俄歇系统、光学三维形貌仪、X射线衍射仪和
【机 构】
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北京工商大学材料与机械工程学院,中国地质大学（北京）工程技术学院
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目的 进一步改善氮化钛薄膜的摩擦学性能。方法 利用金属蒸汽真空弧源（MEVVA）在离子镀TiN薄膜表面进行等剂量W、Mo离子注入。采用扫描俄歇系统、光学三维形貌仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪,分别分析了TiN薄膜的离子注入深度、表面形貌及粗糙度、相结构和不同压入深度的薄膜硬度。在球盘滑动摩擦磨损试验机上考察了TiN薄膜的摩擦学性能,并利用扫描电子显微镜和三维形貌仪对其磨损形貌进行分析。结果 等剂量离子注入后,TiN表面注入层中W离子的含量明显大于Mo离子,两种离子注入对TiN薄膜的表面形貌和硬度的影响较小。
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