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倾斜沉积是一种新型的薄膜沉积技术。通过制备过程中基片的旋转和倾斜,可以制备出斜柱状、之字形、螺旋状、S形以及C形等各种形状的雕塑薄膜。雕塑薄膜可以实现许多传统薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径。本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的结构特征及影响因素,并阐述了其在光学领域的广泛应用前景。