【摘 要】
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对铜(Cu)互连系统使用低k值材料时,应解决的许多相关问题不仅有技术问题,而且有所有权成本(CoO)/质量合格(CoC)问题.从蚀刻和灰化(去除)工艺的角度报道了几种问题的解决方法.
【机 构】
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Tokyo Electron AT Ltd,Yamanashi 407-8511,JapanToko Electron Ltd. Tokyo 107,Japan;
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对铜(Cu)互连系统使用低k值材料时,应解决的许多相关问题不仅有技术问题,而且有所有权成本(CoO)/质量合格(CoC)问题.从蚀刻和灰化(去除)工艺的角度报道了几种问题的解决方法.对蚀刻工艺,将在此推荐Via 1st的Duo248TM方法(Duo248TM是Honeywell公司的材料,包含US专利#6,268,457).对于灰化工艺,建议混合灰化工艺(Hybrid Ashing),即蚀刻和灰化工艺在同一反应室连续进行.这些方法的目标将是65 nm以下工艺.
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