论文部分内容阅读
利用简易合金靶材在Si（100）和SiO2基底上磁控溅射制备了Cu（1.42%Ti）薄膜。研究了少量钛对Cu/Si（100）和Cu/SiO2薄膜体系在573-773 K退火前后的微观组织结构以及界面反应的影响。X射线衍射分析表明，溅射态Cu（Ti）薄膜均呈现Cu（111）和Cu（200）衍射峰，而钛显著增强铜薄膜的（111）织构。对于退火态的Cu（Ti）/Si薄膜体系，由于少量钛在薄膜/基底界面处的存在，起到净化界面作用，促使Cu3Si的形成，从而降低了薄膜体系的热稳定性。但对于Cu（Ti）/SiO2薄膜