【摘 要】
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对HClO4/H3PO4/KMnO4氧化插层体系制备的低温可膨胀石墨的膨胀性能进行了研究，采用红外光谱、热失重和X射线衍射对其结构进行了分析，提出了氧化插层过程和机理。研究表明：制备的
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对HClO4/H3PO4/KMnO4氧化插层体系制备的低温可膨胀石墨的膨胀性能进行了研究，采用红外光谱、热失重和X射线衍射对其结构进行了分析，提出了氧化插层过程和机理。研究表明：制备的低温可膨胀石墨在300℃和400℃的膨胀容积分别达240mL／g和350mL/g，其石墨片层间存在H2PO4^-、HPO4^2-、PO4^3-、ClO4^-阴离子插层物和H3PO4、HClO4中性分子插层物，其TGA图谱的60-250℃之间发生约27％的热失重，X射线衍射图谱在20=29．5°处出现一个不太强的衍射
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