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用透射电镜(TEM),扫描电镜(SEM)和光学显微镜研究了淀积在单晶衬底上的多晶硅层的吸杂能力,研究显示多晶硅还存在两种吸杂的效能:一是能增强内吸......
在器件的高温工艺过程中多晶硅再结晶,晶粒不断地长大,多晶硅层厚因高温氧化而减薄直到完全耗尽.在多晶硅层完全去除后在硅衬底中......