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淀积物相关论文

硅栅干法刻蚀工艺中腔室表面附着物研究

用Cl2,HBr,O2和CF4为反应气体,对多晶硅栅进行了刻蚀试验,并借助X射线能谱仪器Energy Dispersive X-ray Spectrometry(EDS)进行试......

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等离子体淀积物干法刻蚀 EDS

化学汽相淀积法制备的氧化铁透明光刻掩模

在氧化气氛中用分解五羰基铁的方法在玻璃基片上形成2600埃厚的Fe2O3薄膜。采用标准的光致抗蚀剂工艺以稀盐酸作腐蚀剂,获得具有1......

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化学汽相淀积法抗蚀剂光刻掩模氧化铁玻璃基片淀积物

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