光刻掩模相关论文
半导体集成电路制造中,光刻工艺是整个制造过程中的核心技术.而光刻掩模(Reticle,Photomask)则为光刻技术中的最为关键的部件.随着......
随着近代光学尤其是二元光学的迅速发展，光学元件及光学仪器都发生了非常深刻而巨大的变化。光学元件开始向多台阶方向发展。近年来......
<正>光掩模制造是集成电路产业链中工艺、设备、管理技术要求最高,资金投入比重最大的瓶颈工序。任何商业化的集成电路制造都离不......
在氧化气氛中用分解五羰基铁的方法在玻璃基片上形成2600埃厚的Fe2O3薄膜。采用标准的光致抗蚀剂工艺以稀盐酸作腐蚀剂,获得具有1......
激光直写系统是国际上９０年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光......
