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利用射频磁控溅射系统制备了调制周期Λ等于30 nm的一系列具有不同调制比例的ZrN/WN纳米多层膜.X射线衍射仪、表面轮廓仪及纳米力......
为了研究调制比对ZrN／NbB2多层薄膜结构与力学性能的影响，采用超高真空射频磁控溅射技术在Si（100）基底表面上沉积合成具有不同调制比的......
选择ZrC和ZrB2为个体层材料,利用射频磁控溅射系统在室温下制备具有纳米尺寸的ZrC/ZrB2多层膜.通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、......
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