调制周期相关论文
纳米多层膜具有单层薄膜难以达到的各种特殊性能，如高的硬度、结合强度，高的韧性及热稳定性，低的摩擦系数等；同时，非晶碳(a-C)薄膜由于......
利用射频磁控溅射技术,在室温下合成了具有纳米调制周期的TiB2/TiAlN多层膜。分别采用表面轮廓仪、纳米力学测试系统、多功能材料......
高能拍瓦激光的高精度脉宽测量对离轴抛物面镜焦斑功率密度的诊断以及光栅损伤阈值的分析都具有重要意义。分析了光束指向性和近场......
TiN薄膜是一种性能优良的硬质薄膜,在切削刀具、模具、地质钻探、纺织工业、医疗器械、汽车制造等领域均有广泛的应用。但是随着工......
磁控溅射镀膜技术是实验室中最常用的镀膜技术。WS2作为固体润滑剂因摩擦系数低、工作温度高以及耐磨性能好等优点,被广泛应用于真......
本论文采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同Mo靶电流下制备了 NbN薄膜和NbN/MoN纳米多层膜,Nb靶电流恒定为4A,Mo靶电流1～4A,并且制......
学位
从真实海杂波数据出发,对低擦地角雷达海杂波的复合特性进行了深入研究,证明其幅度分布特性可以用复合K分布模型较好地描述,相关函......
为澄清多靶磁控溅射纳米多层膜时组元选择及基片运动特征对纳米多层结构的形成及调制周期的影响规律,本文利用几何分析获得了利用......
金属氮化物镀层是一类在刀模具表面处理中应用十分广泛的涂层材料,随着现代加工制造业的发展,尤其是高速干切削技术的进步,对镀层......
多层膜材料是近年来发展起来的一种在力学、磁学、光学、电学等方面均表现出诸多特殊物理现象和优异性能的新型材料，而多层膜的这些......
本文通过磁控溅射技术在硅基底、蓝宝石基底、不锈钢基底上分别制备了TiB2/Al2O3、TiB2/AlN纳米多层膜。通过对样品的小角度XRD测......
采用一种新型的离子束辅助非平衡反应磁控溅射设备制备了TiN/AlN纳米多层复合膜。采用XRD衍射、TEM、显微硬度计和干涉显微镜对TiN......
本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备了ZrB2、WNx和一系列ZrB2/WNx纳米多层膜,利用XRD、SEM、XP-2台阶仪、纳米力......
为研究Cu/Zr纳米多层膜的力学性能及塑性变形行为,采用磁控溅射方法制备了调制比为1,调制周期Λ=12,20,40 nm的Cu/Zr纳米多层膜,利......
期刊
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
随着国家先进制造技术AMT的发展,中国制造2025国家计划迈入一个新的时代,这在很大程度上促进了高速切削、模具加工、航天航空以及......
学位
采用磁控溅射方法分别在聚酰亚胺基体以及单晶硅基体上制备恒定调制比（η）以及恒定调制周期（λ）的Cu-Cr纳米金属多层膜;通过单轴拉伸试......
采用磁控溅射法交替溅射WS2和石墨靶制备周期为4~23 nm的WSx/a-C纳米多层膜。采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)......
采用磁控溅射方法在Si（111）基底上沉积不同调制周期的Cu／TaN多层膜，用X射线衍射仪（XRD）与原子力显微镜（AFM）表征薄膜微结构与表面形貌，研究......
为了制备质量更高的微纳双重结构，采用激光干涉光刻技术，分别搭建三光束、四光束和六光束光路进行光干涉，对干涉结果进行图像采集的实......
采用磁控溅射技术,制备了具有不同调制周期(150nm,300nm,600nm,1200nm)的Al/CuO二维多层薄膜点火药,对不同调制周期的Al/CuO多层薄......
采用改进的Mann模型,计算了Al/Ni比例(1∶1,1.5∶1,3∶1)、预混层厚度、反应初始温度对复合膜燃烧速率的影响。通过磁控溅射法制备......
利用射频磁控溅射方法（衬底温度20℃）制备TaN,ReB2单层膜及ReB2/TaN纳米多层膜,并通过XRD,SEM,XP-2表面轮廓仪及纳米力学测试系统对......
采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN／NbN纳米多层膜，利用X射线衍射分析（XRD）、纳米压痕仪、扫描电子显微镜（SEM）......
采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN/ZrN纳米多层膜,利用X射线衍射分析（XRD）、纳米压痕仪、扫描电子显微镜（SE......
选择ZrC和ZrB2作为个体层材料．利用超高真空射频磁控溅射系统，在室温条件下制备了ZrC，ZrB2及一系列具有纳米尺寸的ZrC／ZrB2多层薄膜．通......
应用有限元分析程序ANSYS，针对不同调制周期的建模形式，对PI基体上金属多层薄膜界面剪应力进行了探讨，对比分析了三种调制周期对界面......
目的研究低基片转速对纳米多层膜微结构和性能的影响。方法采用阴极多弧离子镀技术在单晶硅基片上沉积制备了MoTiAlN/MoN/Mo纳米复......
利用高真空离子束辅助沉积系统在室温下制备了ZrN,TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用X射线衍射仪、纳米力学测试系统和多功能......
目的研究调制周期对CrAlSiN/TiAlSiN纳米复合涂层结构和力学性能的影响。方法采用多弧离子镀技术,以AlCrSi靶和AlTiSi靶作阴极弧靶......
在调频测距雷达研究中,对改变调制周期测距方法进行了深入分析,设计出了实际电路.采用集成ICL 8038多种信号发生器作为调频测距雷......
目的研究多层薄膜的界面对薄膜性能的影响。方法通过直流磁控溅射法在45#钢表面制备Ti N及Ti/Ti N多层薄膜,采用扫描电镜和XRD衍射......
选择ZrC和ZrB2为个体层材料,利用射频磁控溅射系统在室温下制备具有纳米尺寸的ZrC/ZrB2多层膜.通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、......
期刊
目的研究纳米调制周期对CrWN/MoN纳米多层涂层结构及性能的影响。方法采用电磁永磁共控的阴极电弧离子镀技术,使用纯N2和合金CrW靶......
采用磁控溅射技术制备总厚度为6μm,调制周期分别为134nm/166nm和22nm/28nm的Al/MoO3复合薄膜,并将其与半导体桥(SCB)整合形成含能......
以304不锈钢为基体,利用复合离子镀技术制备了TiN/TiCN多层膜,主要研究了不同调制周期下薄膜组织结构和力学性能的变化规律。结果......
非晶碳氢(amorphous hydrogenated carbon,简称a-C:H)薄膜因其具有高的硬度、低的摩擦系数、良好的化学惰性等优异的性能,被认为是......
利用Matlab模拟了一种新型的非线性啁啾光纤光栅,当对光栅施加纵向应力时,通过改变光栅的调制周期来实现光栅啁啾的非线性,应力的......
以TiN为代表的硬质涂层,因具有高硬度、好的耐磨性和化学稳定性等优点,常被用作机械加工中的刀具、模具的表面改性材料,应用十分广......
为了考察调制周期对反应薄膜性能的影响,采用磁控溅射技术制备了厚度为3μm,调制周期为50,150 nm和300 nm的Al/MoO3反应薄膜,采用......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
用调制差示扫描量热技术(MDSC)对3种聚烯烃进行了分析测试,主要针对MDSC试验过程中的调制周期、调制振幅和平均升温速率进行了优化......
采用等离子增强多靶磁控溅射系统在溅射沉积类石墨（Graphite-like carbon,GLC）薄膜过程中交替掺杂金属W制备了6种纯GLC子层和W-GLC子......
近年来,具有超高硬度和模量,良好热稳定性和耐蚀性的硬质纳米多层膜得到了广泛的关注,其中TiN/NbN纳米多层膜更是因为与广泛应用的......
学位
目的制备高硬度自润滑AlCrN/VN纳米多层复合涂层,提升刀具耐磨性,增加刀具寿命。方法采用多弧离子镀技术在单晶硅(100)、不锈钢以......
为了研究调制周期对TiCrN/WN多层薄膜结构与力学性能的影响,采用超高真空射频磁控溅射系统在Si(100)基底表面制备了一系列TiCrN/WN......
期刊
为研究不同调制周期对TiN/Ag多层膜结构和性能的影响,采用电弧离子镀技术在Si（100）、不锈钢和高速钢基底表面沉积TiN/Ag多层膜.利用......
利用磁控溅射法制备了不同调制周期的多层Al/Ti纳米含能桥膜,并在电容放电激励下对其电爆性能进行测试,Al/Ti纳米含能桥膜的爆发时......
