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铁沾污相关论文

减少硅片湿法清洗工艺铁离子沾污研究

为了研制出高性能电荷耦合器件(CCD),减少硅片清洗工艺Fe离子沾污是关键。利用表面光电压(SPV)法,研究了硅片清洗过程的Fe离子沾污......

期刊

清洗工艺沾污硅片清洗铁沾污电荷耦合器件表面光电压离子污染离子杂质金属杂质化学试剂

硅研磨片超声波清洗技术的研究

介绍了硅研磨片清洗的重要性,分析了影响硅研磨片质量的主要因素,即金属杂质和各种污染物。重点分析了硅研磨片表面沾污的原因,并......

期刊

硅片清洗污染物铁沾污金刚砂及杂质超声波清洗

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