铪基高k栅介质相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

铪基高k栅介质相关论文

新型衬底上铪基高k栅介质材料的制备及同步辐射研究

近几十年来，随着 CMOS器件的持续微型化，即器件的特征尺寸持续减小，采用高介电常数（k）材料来代替传统的SiO2作为栅介质材料，已成为毋庸置......

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铪基高k栅介质电学特性大规模集成电路同步辐射

铪基栅介质薄膜的PEALD制备及界面调控研究

随着CMOS集成电路的快速发展,集成电路的基本单元MOSFET器件的几何尺寸不断缩小。在这种条件下,器件的栅介质性能、沟道迁移率以及......

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铪基高k栅介质 PEALD 掺杂等离子体处理 Si SiGe ETSOI MOSFET

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