大规模集成电路相关论文
构建基于LoRa的大规模集成电路工业洁净室沉降菌动态监测的无线传感器组网模型,采用LoRa技术实现对工业洁净室沉降菌动态监测的节......
在二元光学衍射微透镜的制作工艺中,光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重要的作用.光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与......
在太空环境下,具有精密电子结构的大规模集成电路不断受到电离辐射的损伤而导致电子设备的故障,这种故障由于设备工作条件的限制不......
利用微电子工艺,制备了基于Rotaxane单分子层的双稳态分子电子器件,并对其电学特性进行了表征。研究发现,Ti/Rotaxane/Au双稳态器件具......
在大规模SoC芯片量产测试中,昂贵的自动测试设备导致了测试成本不断提升.对于单颗芯片而言,其测试成本主要由测试时间来决定,因此......
深亚微米工艺下的高速逻辑设计是一个挑战,本文对大规模集成电路设计方法进行了研究,根据高速逻辑设计的需要对传统的大规模集成电......
大规模集成电路(LSI)的生产环境对电子行业极其重要,而洁净环境的控制是一个系统工程,不仅仅依靠优良的处理设备.介绍了利用网络数......
本文介绍大规模集成电路N80C196KC20单片机芯片在X射线辐射环境下性能的退化及剂量增强效应.实验测量了N80C196KC20单片机芯片X射......
前几期的三极管制作,我们都是用三极管制作一些逻辑电路。这一期,我们试一试新的玩法--用三极管演奏乐曲。随着大规模集成电路的形......
集成电路装配工艺是影响集成电路封装可靠性最重要的组成部分。简要介绍了影响大规模集成电路装配可靠性的三种主要失效机理,充......
低温共烧陶瓷(LTCC)型MCM可实现高密度电路互连、易于内埋置无源元件、具有优良的高频特性与可靠性.目前LTCC技术已日趋成熟,大量......
为实现大规模集成电路的发展,硅片直径正在不断扩大,导致了硅单晶生长使用的石英坩埚直径也在扩大化。由于集成电路特征线宽缩小,对硅......
随着计算机和大规模集成电路技术的进步,设备向小型化和功能多样化方面发展。各种轻便移动无线设备的广泛使用,使移动通讯得到了迅速......
薄膜,在现代科学技术中占据着重要地位,它是不少研究领域和技术领域所共同关心的课题.近十几年来,薄膜科学与现代固体物理的一个......
20世纪40年代中期,电子管几乎是各种电子设备惟一的电子器件。那时的人们无论如何也想象不到60年后,把载重卡车大小的设备缩小到手表......
一、数字示波表的由来数字示波表出身“豪门”,祖先要追叙到20世纪40年代,雷达和电视的出现需要性能良好的波形观察工具,这时候模拟示......
由于大规模集成电路的发展,可编程序电子计算器已开始在各个领域广泛使用。有关可编程序电子计算器在化学问题处理上的应用,国内......
随着微电子工业的快速发展,为了提高大规模集成电路中芯片间的传输速度以满足高集成化的要求,需要层间绝缘材料具有较低的介电常数......
雅玛哈是最早将杜比定向逻辑解码器与数码声场处理器DSP合而为一的厂家。雅玛哈AV功放R-V1105采用该公司DSP大规模集成电路YSS-91......
上海贝岭股份有限公司生产的通信、电子电度表用大规模集成电路(如BL0932)、金卡用集成电路(如BL7442)名
Shanghai Belling Co.,......
为处理大规模集成电路 ,必须控制蚀刻 Si O2 的氟原子密度。日本京都大学的研究者提出用真空紫外激光吸收技术评估氟浓度的方法。......
本文介绍了NJU501/NJU502系列压电蜂鸣器单曲调CMOS IC的功能、特点及应用。
This article describes the NJU501 / NJU502 serie......
本文着重介绍了FCOG630D晶闸管触发板的先进功能及其在生产中的实际应用。
This article focuses on the FCOG630D thyristor tri......
本文简单叙述了PWM大规模集成电路HEF4752V的结构和原理。说明了双缘调制的特点,介绍了HEF4752V的几种应用。
This article brief......
法国佩希尼公司最近宣布,该公司的梅喀斯厂已开始了超纯铝的生产。此材料是用于制造具有1—4兆位记忆功能的大规模集成电路。该厂......
本文讨论了ULSI的发展对低介电常数 (low k)介质的需求 ,介绍了几种有实用价值的low k介质的研究和发展现况 ,最后评述了low k介质......
本文介绍的定时器采用大规模集成电路,其精度高,定时时间长,约为十天。可使整个计时过程自动化,省时、省力,是理想的热处理炉定时......
在进行大规模集成电路光刻时 ,采用同步辐射光源是一项新技术。本文介绍了同步辐射光刻镜扫描控制系统。通过提高光刻镜扫描的控制......
大规模集成电路及半导体材料的研制工艺过程中,需要超纯水及试剂,结合我国具体情况,对其纯度提供系统的数据是非常必要的。国外文......
一、概 述 WX──841型微机数显控制仪将先进的计算机技术与精密的光栅技术揉合在一起,适用于单件、参量复杂、需要经常改变工艺参......
自晶体管问世以来半导体器件经历了分立元件、集成电路和大规模集成电路等几个发展阶段。制作半导体器件采用高纯单晶原材料并有......
聚乙烯氧乙基肉桂酸酯(PVEC)是一种负性感光胶。适用于精密线条的复印、超高频晶体管的制造和高密度大规模集成电路的研制等。对......
在大规模集成电路和半导体材料的研制工艺过程中,对所使用的化学试剂的纯度的控制,非常重要。水和试剂中的某些杂质元素的沾污往......
为满足我国电子工业采用大规模集成电路的需要,我厂和清华大学以及有关单位密切协作,初步试制成负型光刻胶302。负型光刻胶302是......
光敏树脂分子量的多分散性对光刻胶性能有极大影响。聚乙烯醇肉桂酸酯是国内外最早和最广泛用于光刻工艺的光敏树脂,然而过去由于......
据《华强电子世界》报道,日本东芝公司和NEC电子公司近日公布,将合作开发下代系统大规模集成电路(LSI)。由于东芝公司同时也在与索......
印制电路板(Printed Circuits Board,简写PCB)是将电子线路印制在一基板上。一个理论上设计良好的电路,必须有合理的布局,才能使电路在......
一、前言测定石英玻璃中微量杂质的方法,主要有化学光谱法,无火焰原子吸收分光光度法,中子活化分析法和火花源质谱分析法。近年来......
新技术革命的浪潮推动着大规模集成电路和超大规模集成电路以及传感器技术的飞速发展,要把一二十万个乃至百万个电子元件或电路集......
该仪器经北京市科技协作中心组织,召集有关的专家、学者审定已于7月3日通过鉴定。本研究课题是由北京氧气厂提出,经北京市科技协......