静电卡盘相关论文
真空静电卡盘是半导体工艺中最重要的元件之一，主要应用于集成电路设备和光学设备，起到承载晶圆或衬底的作用。本文利用物理气相沉积......
静电卡盘是半导体以及光学设备中关键器件之一，主要起到固定衬底快速加热的作用。本研究中搭建了真空腔室平台，并依据气体背吹法，测试......
静电卡盘被广泛用作物理气相沉积晶圆承载台.静电卡盘可利用静电吸力将晶圆固定在静电卡盘上防止晶圆在工艺过程中出现位置偏移.在......
在半导体制造工艺中，刻蚀是一个重要环节，是用物理或化学方法有选择性的去除材料的工艺过程，而温度是影响物理和化学反应的重要因素。......
氮化铝(AlN)陶瓷凭借其优异的性能和功能被广泛应用,其扩散系数小,共价性强,致使烧结难度较大,生产成本较高。AlN 烧结通常采用常......
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