193nm光刻相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

193nm光刻相关论文

0．1μm线宽主流光刻设备—193nm（ArF）准分子激光光刻

阐述了可实现0.1 μm线宽器件加工的几种候选光刻技术,对193 nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述,指出其在0.1 μm技术......

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光学光刻光刻设备 193nm光刻 Optical lithography Lithographic equipment 193 nm lithograph

先进光刻胶材料的研究进展

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EU......

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光刻胶 193nm光刻 EUV光刻化学放大光刻胶分子玻璃

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