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55纳米逻辑器件相关论文
ArF浸没式光刻在55nm逻辑器件制造中的优势
通过比较干法和浸没光刻技术在超越焦深(DOF)提高方面的一些主要特点,举例说明了采用浸没式光刻技术的许多优势.浸没式光刻技术同......
期刊
浸没式光刻
55纳米逻辑器件
成像
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关键尺寸一致性
Immersion lithography
55nm logic device
Imaging
Ove
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