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以共溅射法制备的Cu-In预制膜为衬底材料,以硒粉为原料,尝试了几种特殊的硒化方案,包括单源硒化法、双源硒化法、表面喷粉硒化法、......
摘要：采用Cu、In双靶，直流磁控溅射的方法制备Cu-In薄膜，然后采用固态源硒化的方法形成CuInSe2（CIS）薄膜。采用SEM和EDX观察和分析了样......
采用Cu、In双靶，低功率直流磁控溅射的方法沉积Cu-In双层预置膜，然后采用固态源硒化法生成CuInSe2（CIS）薄膜。采用SEM和EDX观察和分析......
